常壓等離子體設(shè)備主要有三類(lèi)：電暈放電等離子體設(shè)備、微波等離子體設(shè)備、多瓦等離子體設(shè)備。

1、電暈放電等離子裝置

電暈放電等離子體裝置是一種基于使用高頻電源產(chǎn)生等離子體的裝置。通過(guò)在電極之間施加高頻電壓來(lái)釋放等離子體，并通過(guò)與反應(yīng)氣體的化學(xué)反應(yīng)來(lái)對(duì)表面進(jìn)行改性和清潔。一般來(lái)說(shuō)，它的特點(diǎn)是溫度低，對(duì)樹(shù)脂和薄膜等聚合物材料有效。

2、微波等離子體裝置

微波等離子體裝置是利用微波產(chǎn)生等離子體的裝置。通過(guò)注入反應(yīng)氣體并施加高頻電場(chǎng)，反應(yīng)氣體吸收微波并產(chǎn)生等離子體。它可以產(chǎn)生高溫等離子體，用于金屬、陶瓷等的高分辨率表面改性和薄膜形成。

3.Dova等離子裝置

Dova Plasma 裝置是一種帶有水平排列的針和板作為電極的裝置。板上有反應(yīng)氣體流過(guò)的小孔。通過(guò)在針和板之間施加高電壓，針尖處會(huì)產(chǎn)生電暈放電，從而產(chǎn)生等離子體。它可以產(chǎn)生低溫等離子體，可應(yīng)用于細(xì)胞和生物組織的處理。